跳转到内容

350纳米制程

维基百科,自由的百科全书
(重定向自0.35微米製程

350纳米制程,又稱0.35微米製程,是半导体制造制程的一个水平,大约于1995年至1996年左右达成。[1][2] 这一制程由当时领先的半导体公司如英特尔IBM所完成。

具有350纳米制程的产品

[编辑]

参考文献

[编辑]
  1. ^ Mueller, S. Microprocessors from 1971 to the Present. informIT. 2006-07-21 [2012-05-11]. (原始内容存档于2015-04-27). 
  2. ^ Myslewski, R. Happy 40th birthday, Intel 4004!. TheRegister. 2011-11-15 [2015-04-19]. (原始内容存档于2015-04-27). 
  3. ^ Propeller I semiconductor process technology? Is it 350nm or 180nm? - Parallax Forums. Forums.parallax.com. [2015-09-13]. (原始内容存档于2012-07-10). 
先前
600纳米制程
半导体器件制造制程 其後
250纳米制程