软微影技术

软微影技术(soft lithography)，又称软微影制程、可挠性奈米转印^[1]、软蚀刻技术或软光刻技术，是一种用软性高分子材质做成的可挠性刻印的模具，在模具上面涂布具有自我组合性能的单元分子(SAM， Self-Assembly Monomer)后，像印章一样，在镀金的薄膜基板上微压，把奈米图形模子上面凸出部分的自我组合性能的单元分子(SAM)像油墨一样的印在金薄膜上^[1]。

优点

软微影技术具有一些独特的优势比其他形式的微影(光刻)技术（如光刻和电子束光刻）。它们包括以下内容：
1.更低的成本比传统微影技术大量生产。
2.非常适合应用在生物技术。
3.非常适合应用在塑胶电子。
4.非常适合于超大型平面，或及非平面（nonflat）微影。
5.不需要制作光罩，即可制造一个小的细节设计比一般微影实验室设备的（30〜100纳米）差不多^[2]。

缺点

现在的集成电路包含了好几层不同的材料，PDMS压模的扭曲变形会导致复制图案的小误差，也使上下层做好的图形排列得不整齐。即使是最微小的排列误差或扭曲，都会损坏多层奈米电子装置。因此，软蚀刻法不适合制造需要精准堆叠的多层结构。此缺点可藉热压成形式奈米压印或步进光感式奈米压印来改善之^[1]。

参见

参考资料

Xia, Y.; Whitesides, G. M. Soft Lithography. Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1998, 37: 551–575 [2011-02-04]. doi:10.1002/(SICI)1521-3773(19980316)37:5<550::AID-ANIE550>3.0.CO;2-G. （原始内容存档于2011-08-12）.
Xia, Y.; Whitesides, G. M. Soft Lithography. In. Annu. Rev. Mater. Sci. 1998, 28: 153–184. doi:10.1146/annurev.matsci.28.1.153.
Quake, S. R.; Scherer, A. From micro- to nanofabrication with soft materials. Science. 2000, 290 (5496): 1536–1540. PMID 11090344. doi:10.1126/science.290.5496.1536.

[#1-1] 1.0 ^1.1 ^1.2 http://140.112.43.210/STUDY/%E5%A1%91%E8%86%A0%E5%8A%A0%E5%B7%A5%E8%AA%B2%E7%A8%8B/%E5%A1%91%E8%86%A0%E5%8A%A0%E5%B7%A5%E6%9C%9F%E6%9C%AB%E5%A0%B1%E5%91%8A%E7%B8%BD%E6%95%B4%E7%90%86/%E7%AC%AC10%E7%B5%84_%E5%A5%88%E7%B1%B3%E5%A3%93%E5%8D%B0/new_page_6.htm^{[永久失效链接]}

[2] Waldner, Jean-Baptiste. Nanocomputers and Swarm Intelligence. London: ISTE John Wiley & Sons. 2008: 93. ISBN 1847040020.

[1]

[2]